成都郫都区这次出现的本土疫情，后续情况会发展到什么程度？
成都郫都区第二例确诊患者是拉三轮车的。因为这个工作的原因，是的密切接触人员、流动区域等等都加大，不排除存在多人感染的情况。不过，成都郫都区这次疫情特别让我感到震惊的是，确诊患者家里的门把、冰箱、菜板污染严重，都检测出了阳性。
这个细节让我觉得这个新冠病毒的活性似乎越来越强。特别是现在出现的确诊病例多数是境外冷链食品导致。我们很多省市也在尽快冷冻食品上检测到新冠病毒。新的发现必然给我们的防疫工作带来新的挑战，也给我予以警示。
成都7日出现两起本土确诊病例，8日又新增3例新冠肺炎确诊病例，这个确实有点多。后面还会不会新增确诊患者，这个不好说。但不管会不会，我们现在要做的便是排除密切接触者，对密切接触者进行隔离及核算检测。同时我们还要做好溯源工作，确认引发本次疫情原因。这些都是源头及基础工作。我们只要做好这些，就能有效针对疫情进行防疫，能够防止疫情进一步扩散。如果工作没有到位，排查没有落实到位，那疫情发展到什么地步，那就不好说了。最最最严重的后果，那无非就像武汉那样选择封城。不过我相信到现在这个阶段，我们应当怎么都不需要到这个程度。另外对于这个疫情，我们也不要太恐慌。成都不是第一起，之前的新疆、天津、云南、山东等都出现这种情况，我们也都应对的好好的。所以这次也不会有例外。
中国目前光刻机处于怎样的水平？
目前来看，我国自研的光刻机还依然处于制程工艺为90纳米的水准。
这个水准的光刻机，隶属于第四代步进扫描式光刻机，采用的是波长为193纳米的，深紫外光ArF光源，其制程工艺在135纳米-65纳米之间。
与浸没式光刻机相比差半代，与EUV光刻机相比差一代。
国内这型制程工艺在90纳米的光刻机，也就是由上海微电子生产的SSX-600/20型光刻机。
该光刻机采用了四倍缩小物镜，自适应调焦调平技术，六自由度工件台掩膜台技术，可以适应8寸或者12寸的晶圆。
也就是说，目前国内最先进的光刻机，也只能达到90纳米的制程工艺，不过经过多次曝光之后，估计制程工艺还会进一步缩小。
而国际上最先进的，制程工艺最低的，就是ASML集成的EUV光刻机。该光刻机的制程工艺已经达到了7纳米，采用了波长为13.5纳米的EUV光源；镀了近百层钼和硅制成薄膜的反射镜，而薄膜的粗糙度控制在零点几纳米级别；还有运动精度误差控制在1.8纳米的双工件台。以上只是EUV光刻机，最为重要的三大部件。而一整台EUV光刻机是由10万多个零部件，且还要经过工程师上百万次的调试，才可以交付使用。
想象一下10万多个零部件是什么概念。
一般的家用小轿车只有2万多个零部件。
一架波音737NG约有50多万个部件。
可想而知，组装一台光刻机的难度有多大。当然了，不仅仅是组装完成之后就完事了，还对装配的精度要求相当的高。
我国的光刻机技术仍然处于低端水平，上海微电子的光刻机代表我国光刻机的最高水平，制程工艺为90nm，而ASML的光刻机已经进入5nm的制程工艺，我国的高端光刻机全部依靠进口。下文具体说一说。
光刻机的“技术壁垒”
光刻机的技术门槛极高，可以说是集人类智慧大成的产物。
ASML的光刻机超过90%的零件向外采购，整个设备采用了全世界上最先进的技术，是多个国家共同努力的结果，比如德国的光学设备和精密机械，美国的计量设备和光源设备。一台7nm EUV光刻机包含了5万多个零件，13个系统，需要把误差分散到这个13个子系统中，所以每个配件必须得非常精准。
最关键的是生产光刻机所需的关键零件，对我国是禁运的，所以制约了我国光刻机技术的发展。
ASML的光刻机
目前，全球光刻机领域的龙头老大是荷兰的ASML，占领了80%的市场，日本的尼康和佳能已经被ASML完全击败。最先进的EUV光刻机，只有ASML能够生产。大家所使用的的手机的处理器、电脑的CPU，大部分是ASML的光刻机制造出来的。
ASML的7nm EUV光刻机已经非常成熟，华为的麒麟980处理器、苹果的A12处理器、高通的骁龙855处理器均是有台积电代工使用ASML的7nm 光刻机生产的。据说，ASML已经开始生产5nm制程的光刻机。
我国的光刻机
我国光刻机领域的龙头企业是上海微电子装备有限公司（SMEE），可以稳定生产90nm制程工艺的光刻机，并且占领了国内80%的光刻机市场，上海微电子正在研制65nm制程的光刻机。
根据我国重大专项计划提出，在2020年实现22nm制程的光刻机。
总之，相比德国、日本、美国我国的芯片制造以及超精密的机械制造方面有一定的差距，同时国外对我国的“技术封锁”，关键零件“禁运”相比ASML最新的EUV 7nm光刻机，我国的光刻机仍然有很大的差距。
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